光掩膜板是光刻机中非常重要的组成部分,它是光刻过程中的关键元件之一。光掩膜板通过光学曝光和显影的过程,将图形传输到光刻片上,从而实现微电子器件的制造，集成电路行业中所说的“掩膜”是光掩膜光掩膜(mask)资料:在半导体制造的整个流程中,其中一部分就是从版图到wafer制造中间的一个过程,即光掩膜或称光罩。

其中合成石英掩膜基板,具备着良好的化学稳定性。光掩膜除了应用于芯片制造外,还广泛的应用于像LCD,PCB等方面。常见的光掩膜的种类有四种,铬版(chrome)、干版,凸版、液体凸版。主要分两个组成部分。光罩,也叫光掩膜版,是一种由石英为材料制成的,可以用在半导体曝光制程上的母版。而这种从光罩母版的图形转换到晶圆上的过程,就像印钞机工作一样。

是指光掩模版、掩膜版,英文名称MASK或PHOTOMASK),材质:石英玻璃、金属铬和感光胶,该产品是由石英玻璃作为衬底,在其上面镀上一层金属铬和感光胶。业内又称光掩模版、掩膜版,英文名称MASK或PHOTOMASK),材质:石英玻璃、金属铬和感光胶,该产品是由石英玻璃作为衬底,在其上面镀上一层金属铬和感光胶。