最近，我的朋友@风云学会陈经科普了我国28nm光刻机开发的情况：1.没有一个光刻机叫28nm光刻机。现在热门的有两种，最先进的叫EUV光刻机，是13.5nm极紫外光源，次先进，也非常先进的叫DUV光刻机，深紫外光源，193nm，这个可以买到，但是也需要审批，需要抓住机会买多些。2.所谓28nm光刻机，应该是指193nm光源的DUV光刻机，可以用于加工28nm制程的芯片。
而且也不是光刻机一个机器的事，还有好几百个环节都要配合好。3.负责开发国产光刻机的SMEE上海微电子，是个集成单位，光源、工作机台、物镜系统都有别的单位在研究。这个单位之前在晶圆加工方面生意基本为0，只是在封装测试的低端光刻机有一些生意，主要经验是低端的。而且待遇据说不好，人才水平不高，很难忽然就厉害起来。
1、如果比亚迪研发7nm芯片和7nm光刻机,能取代富士康吗?比亚迪研发光刻机，这个可能性为零，因为没有哪一家企业能单独研发光刻机，世界上找不出这样的一家企业，光刻机属于整个工业体现的完美体现，我们国家投入那么大的人力资源财力和物力，现在都没有办法突破十四纳米的光刻机，比亚迪再厉害也做不到，所以根本不可能的事情，比亚迪自己研发芯片这个可以去做，但是说自己研制光刻机不可能。富士康自身也没有这个能力研发光刻机，富士康只是一个代工厂，自己并不算科技公司，富士康完全不具备研发光刻机的能力，更不用说7纳米级别的了，全世界只有荷兰一家，而且这家公司并不是自身能力，而是跟几十个国家的顶级科技公司合作，从这些公司中提供最顶级的配件组装而成的，世界上并没有哪一家公司能够单独研制成功。
2、光刻机是怎么工作的?一台光刻机一年能制造多少芯片?当芯片工艺达到7Nm时，需要一台EUV光刻机，也称为极紫外光刻机，世界上只能生产荷兰的ASML。ASML的生产能力有限，自2015第一次EUV光刻机交付以来，2020年底已经交付了100台，而在2021上半年已经交付了16台，这意味着迄今为止已经交付了116份。基于出货量最大的最基本的nxe，3400c，我们每小时加工170块12英寸晶圆，而12英寸晶圆的面积约为70659平方毫米，华为麒麟9000芯片的面积约为100平方毫米。
3、0.1nm!央视宣布好消息:EUV光刻机最后的一片拼图EUV光刻机号可以说是人类工业史上的皇冠，其内部的零部件就达到了10万颗，背后还有5000多家供应商，所以说，单凭一个国家的科技水准，是很难制造出完整EUV光刻机的。谈到光刻机就肯定避免不了芯片，当下芯片领域的发展一直是全球关注的重点，光刻机作为芯片制造的基础，一直是我国难以跨越的鸿沟，尤其是在高端光刻机方面，但是好在是EUV光刻机虽然难度大，哪怕是ASML公司也是集合各家所厂研发而成，这样一来，在一定程度上完成逐一突破便也有了可能。